Китай добился успеха в создании 3-нм чипов без использования передового оборудования для литографии

Дата публикации: 19-09-2026 13:25:00

До массового внедрения результатов научного прорыва в производство ещё далеко, однако КНР постепенно движется в направлении обеспечения полной самодостаточности.

Основное содержимое страницы с новостью.

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	Китай начал выпуск оборудования с иммерсионным УФ-излучением для производства микросхем	0	15.56	29-07-2026
2	Китай крушит устои мира. Вопреки всем санкциям началось производство суверенных продвинутых литографов. ASML больше не нужна	0	10	28-07-2026
3	SCMP: В Китае пытаются научиться создавать 3-нм чипы без EUV-литографии	0	21.11	20-09-2026
4	Китай запускает производство чипов по норме 5 нм без EUV-машин	0	7	14-07-2026
5	The Information: Китай начал серийное производство установок для иммерсионной литографии, которые позволяют выпускать чипы по техпроцессу до 7 нм	0	16.21	28-07-2026
6	СМИ: Китай намерен добиться прорыва в производстве полупроводников	0	0	11-02-2022
7	Китай начал выпуск оборудования с иммерсионным УФ-излучением для выпуска микросхем	0	14.65	29-07-2026
8	The Information: В Китае начали производство собственных DUV-литографов для 7-нм чипов	0	12.49	28-07-2026
9	Китайские ученые ускорили производство оптических чипов в сотни раз	7	8	20-07-2026
10	Китай начал серийное производство установок для иммерсионной литографии	0	14.17	28-07-2026

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 8.79. Источник: overclockers.ru.