Intel приступила к использованию новейших литографических установок High NA EUV компании ASML при производстве отдельных компонентов процессоров Panther Lake для ноутбуков. Это первое практическое применение оборудования нового поколения в серийном производстве флагманских чипов компании.

Такой подход позволит Intel накопить опыт работы с самым современным оборудованием для выпуска полупроводников и подготовиться к следующим поколениям техпроцессов.Источник изображения: Reuters
URL изображенияУстановки High NA EUV считаются следующим этапом развития экстремальной ультрафиолетовой литографии. Каждая такая машина стоит около 400 миллионов долларов, примерно вдвое дороже стандартного EUV-оборудования. Благодаря более высокой числовой апертуре оборудование позволяет формировать элементы микросхем с ещё большей точностью, что становится критически важным по мере приближения размеров транзисторов к атомному масштабу.

Intel получила первый экземпляр High NA EUV ещё в 2024 году и начала испытания на исследовательской площадке в Хиллсборо (штат Орегон). Сейчас компания использует новую установку лишь для отдельных слоёв кристалла Panther Lake, одновременно продолжая производство остальных элементов с применением традиционных EUV-машин и собственного техпроцесса Intel 18A. Такой подход позволяет постепенно интегрировать дорогостоящее оборудование без риска для массового выпуска продукции.