Китай еще на один шаг приблизился к разработке собственного передового оборудования для производства чипов. Исследовательская группа, возглавляемая бывшим научным сотрудником ASML Лин Нанем, добилась прогресса в разработке источника света EUV, важнейшего компонента для производства ультрасовременных чипов.

Современные чипы производятся путем нанесения чрезвычайно мелких рисунков на кремниевую пластину. Для этой цели ASML использует так называемые EUV-машины. EUV расшифровывается как экстремальный ультрафиолетовый свет, который позволяет создавать детали гораздо меньшего размера, чем при использовании более старых технологий.

В прошлом году китайские исследователи уже разработали экспериментальный EUV-источник света с эффективностью преобразования 3,42 процента. Это означает, что 3,42 процента энергии используемого лазера преобразуется в полезный EUV-свет.

Это сильный результат для исследовательской организации. Он даже превосходит предыдущие достижения нескольких западных исследовательских центров. Тем не менее, коммерческие системы ASML на протяжении многих лет достигали значительно более высокой эффективности преобразования. Кроме того, они производят гораздо больше света.

Китайский источник света обладает мощностью от 100 до 150 Вт. Современные коммерческие EUV-аппараты выдают около 600 Вт. Это различие важно, потому что более мощный источник света позволяет фабрике производить больше микросхем за тот же промежуток времени. ASML ожидает, что в этом году будет поставлено около шестидесяти аппаратов EUV, а также работает над еще более мощными источниками света мощностью 1000 Вт.

Лин Нань ранее работал в ASML в Нидерландах, где он участвовал в разработке источников света для измерительного оборудования. Этот опыт сейчас играет важную роль в китайской исследовательской программе.

Однако EUV-машина — это гораздо больше, чем просто мощный источник света. Также необходимы высокоточные зеркала, передовые системы движения и сложное программное обеспечение. Все эти компоненты должны работать вместе почти безупречно в масштабе нескольких нанометров.
Китае теперь есть рабочий прототип, который может генерировать EUV-излучение. Однако машина пока не способна производить пригодные для использования чипы. Оптические системы, которые ASML разрабатывает совместно с немецкой компанией Zeiss, по-прежнему являются серьезной технической проблемой для Китая .

: