Китай отстает в микрочипах на 14 лет – но отрыв уменьшается
Так считает гендиректор полупроводникового подразделения немецкого производителя линз Zeiss Франк Рохмунд. По его данным, Китай сильно продвинулся в области глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии – однако конкурировать с новейшим оборудованием ASML им сложно, и до современных EUV-установок (экстремального УФ) еще далеко.
При этом Рохмунд считает, что санкции лишь заставляют Китай вкладывать больше денег в полупроводники и тем самым ускорять инновации и снижать отрыв. Поэтому запрет на поставки EUV-оборудования тормозит страну лишь в моменте, и на большой дистанции ситуация может кардинально измениться.
Присоединяйтесь к нам:
🔻 Группа VK: vk.ru/box_movie_new (Тематика: 👉 Фильмы)
🔻 Группа VK: vk.ru/club235598284 (Тематика: 👉 Космос)
🔻 Группа VK: vk.ru/club236246972 (Тематика: 👉 Ферма CS)