Китай показал прототип EUV-литографа, но до активного использования еще несколько ...

Дата публикации: 14-10-2026 14:09:39

Китай показал прототип EUV-литографа, но до активного использования еще несколько лет
Китайская компания Landau Flint продемонстрировала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), который подходит для производства новейших чипов с техпроцессом меньше 7 нм. Обещают уровень локализации выше 90% и технологический подход, сопоставимый с решениями ведущих мировых производителей, такими как ASML.
Однако на практике есть нюансы. FlintNano LPP-OXXO имеет лазер на 1 кВт с частотой от 1 до 20 кГц, при этом заявленная мощность EUV – лишь 15 Вт, а время непрерывной работы – 100 часов. Обещают стабильность плазмы на уровне 3% RMS и энергетическую стабильность 5%. Проблема лишь в том, что такой мощности не хватит для производства сложных чипов: современные станки ASML имеют EUV на сотни ватт, так что Landau Flint еще есть над чем работать.
Присоединяйтесь к нам:
🔻 Группа VK: vk.ru/box_movie_new (Тематика: 👉 Фильмы)
🔻 Группа VK: vk.com/club235598284 (Тематика: 👉 Космос)
ВЫГОДНО:
🔥 КУПИТЬ / ПРОДАТЬ ключи TF2: https://vk.cc/d29I8W
🔥 КУПИТЬ АККАУНТЫ CS2 С ПРАЙМОМ: https://vk.cc/d29I8W

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	Бывший сотрудник ASML помог создать Китаю важнейший источник света EUV для литографии	0	9.5	12-08-2026
2	Китай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML	0	10.28	11-08-2026
3	Китай отстает в микрочипах на 14 лет – но отрыв ...	0	8.75	04-09-2026
4	Эксперты не поверили в прорыв Китая по DUV-литографии	0	14.93	28-07-2026
5	Китай начал массовое производство отечественных литографических установок DUV (глубокого ультрафиолетового ...	0	9.07	02-08-2026
6	У Китая появилась своя литография в глубоком ультрафиолете Секретная компания ...	0	8.76	28-07-2026
7	У Китая появилась своя литография в глубоком ультрафиолете Секретная компания ...	0	8.76	28-07-2026
8	SCMP: В Китае пытаются научиться создавать 3-нм чипы без EUV-литографии	0	21.11	20-09-2026
9	«Чтобы делать чипы, сначала постройте вакуумный мир»: как технологии сверхвысокого ...	0	7	19-07-2026

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 9. Тональность: 0. Информативность: 15.02. Источник: vk.com.